納米壓印光刻 (NIL) 解決方案——高性能光刻膠，助力納米制造革命

——來自德國 micro resist technology，納米壓印光刻材料的行業(yè)先驅(qū)

核心優(yōu)勢

? Excellence的薄膜質(zhì)量 | ? 高保真圖案復制 | ? 優(yōu)異的干法刻蝕性能
? 廣泛的印章兼容性 | ? 定制化解決方案 | ? 符合工業(yè)級安全標準（ISO 9001 & 14001）

應用領(lǐng)域：

l光子學（超表面、光柵、AR/VR）

l下一代電子器件（納米線、MEMS）

l生命科學與傳感器（微流控芯片、生物傳感器）

明星產(chǎn)品系列

1. UV-NIL 光刻膠

2.

2.

熱壓印（T-NIL）光刻膠

| mr-I 9000M | 熱固性樹脂，無玻璃化轉(zhuǎn)變溫度（Tg），耐高溫 260°C，yongjiu光學透明 | 高溫環(huán)境應用（如封裝、光學透鏡） |
| mr-I T85 | 基于 COC 材料，耐酸堿/有機溶劑，超高紫外透過率 | 微流控芯片、透明器件 |

3. 創(chuàng)新工藝方案

NIL + 剝離工藝：結(jié)合 mr-NIL212FC/LOR 實現(xiàn)復雜金屬納米結(jié)構(gòu)（如 200nm 金屬網(wǎng)格）。

NIL + 深度刻蝕：通過含硅光刻膠 SiPOL 或硬掩模（SiO?）實現(xiàn)高深寬比結(jié)構(gòu)放大。